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    光柵光譜儀的相關(guān)介紹

    更新日期:2018-04-26       點(diǎn)擊次數:2981
    光柵光譜儀的相關(guān)介紹
    光柵光譜儀,是將成分復雜的光分解為光譜線(xiàn)的科學(xué)儀器。通過(guò)光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影,或電腦化自動(dòng)顯示數值儀器顯示和分析,從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應用于顏色測量、化學(xué)成份的濃度測量或輻射度學(xué)分析、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域中。
    光柵作為重要的分光器件,它的選擇與性能直接影響整個(gè)系統性能。為更好協(xié)助各位使用者選擇,在此做一簡(jiǎn)要介紹。
    光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等??虅澒鈻攀怯勉@石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成;復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽??虅澒鈻啪哂醒苌湫矢叩奶攸c(diǎn),全息光柵光譜范圍廣,雜散光低,且可作到高光譜分辨率。
    光柵光譜儀光柵方程
    反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽,一系列平行刻槽的間隔與波長(cháng)相當,光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產(chǎn)生衍射和干涉。對某波長(cháng),在大多數方向消失,只在一定的有限方向出現,這些方向確定了衍射級次。光柵刻槽垂直輻射入射平面,輻射與光柵法線(xiàn)入射角為α,衍射角為β,衍射級次為m,d為刻槽間距,在下述條件下得到干涉的極大值:Mλ=d(sinα+sinβ)
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